一、基礎光學參數測量儀器 - 頻率/波長/功率

1. 光學顯微鏡
   • 用途：觀察微小物體的顯微圖像，用于材料科學、生物學等領域。
   • 特點：高放大倍數和分辨率，可清晰顯示微觀結構。
2. 光譜分析儀
   • 用途：測量發光體的輻射光譜，分析物質成分和結構。
   • 特點：關注波長范圍（如600nm-1750nm）、精度（±20pm）和分辨率（RBW帶寬0.03-1nm）。
3. 光功率計
   • 用途：測量光功率，廣泛應用于光纖通信、光電子器件測試。
   • 特點：覆蓋寬波長范圍（450nm-1800nm），具備高靈敏度和多通道測試能力。
4. 可調諧激光源
   • 用途：提供波長可調的激光，用于光學測量和校準。
   • 特點：支持高動態范圍輸出，具有高波長精度和快速掃描能力（如80nm/s）。
5. 多波長計
   • 用途：測量輸入信號的波長和功率，可區分多達1000個離散波長。
   • 特點：高精度，適用于復雜光信號分析。

二、幾何尺寸與形貌測量儀器

1. 干涉儀
   • 用途：利用光的干涉現象測量微小距離、角度或表面平整度。
   • 類型：邁克爾遜干涉儀、法布里-珀羅干涉儀等。
   • 特點：高精度（納米級），常用于光學精密測量。
2. 激光測徑儀
   • 用途：以激光為光源，測量物體外形尺寸。
   • 特點：非接觸測量，適用于工業在線檢測。
3. 工具顯微鏡
   • 用途：按平面直角坐標和極坐標測量零件尺寸。
   • 類型：小型、大型、萬能工具顯微鏡等。
   • 特點：高精度，可配備多種測量附件。
4. 3D表面輪廓儀
   • 用途：測量物體表面三維形貌。
   • 特點：采用白光照明，結合CCD攝像機采集相位變化，實現非接觸式測量。

三、光學性能測量儀器

1. 橢偏儀
   • 用途：分析薄膜厚度或材料光學性質（如折射率、消光系數）。
   • 特點：非破壞性測量，廣泛應用于半導體制造和微電子學。
2. 偏振分析儀和控制器
   • 用途：分析光信號偏振特性，調整光信號偏振狀態。
   • 特點：實時測量偏振態，支持快速轉換和校準。
3. 光度計
   • 用途：測量光強或光源亮度（如照度計、亮度計）。
   • 特點：高靈敏度，適用于低光環境測量。

四、特殊應用光學測量儀器

1. 光學相干斷層掃描儀（OCT）
   • 用途：利用低相干光干涉原理，進行醫學視網膜成像或材料無損檢測。
   • 特點：非侵入式，高分辨率。
2. 激光雷達（LiDAR）
   • 用途：利用激光脈沖測量距離，應用于地形測繪、自動駕駛。
   • 特點：高精度，可實時獲取三維空間信息。
3. 光子相關光譜儀
   • 用途：通過散射光分析納米顆粒尺寸（動態光散射技術）。
   • 特點：非接觸式，適用于微小顆粒測量。

五、工業與醫學檢測專用儀器

1. 投影光刻機
   • 用途：利用紫外光在半導體晶圓上刻蝕微納結構。
   • 特點：高精度，是芯片制造的核心設備。
2. 內窺鏡
   • 用途：通過光纖或透鏡系統觀察人體內部或工業設備內部結構。
   • 特點：柔性或剛性設計，適應不同檢測場景。
3. 自準直儀
   • 用途：測量小角度或直線度，常用于機床導軌校準。
   • 類型：光學自準直儀、光電自準直儀、數字式自準直儀。
   • 特點：高精度，操作簡便。